首页>今日读图今日读图
中国5G芯片关键材料获突破 将尽快商用推向市场
原标题:中国5G芯片关键材料获突破 处于国际领先水平
2月21日消息,记者近日从西安电子科技大学芜湖研究院获悉,作为芜湖大院大所合作的重点项目,国产化5G通信芯片用氮化镓材料日前在西电芜湖研究院试制成功,这标志着今后国内各大芯片企业生产5G通信芯片,有望用上国产材料。
据介绍,氮化镓半导体材料具有宽带隙、高击穿场强、高热导率、低介电常数、高电子饱和漂移速度、强抗辐射能力和良好化学稳定性等优越物理化学性质。成为继第一代半导体硅、第二代半导体砷化镓之后制备新一代微电子器件和电路的关键材料,特别适合于高频率、大功率、高温和抗辐照电子器件与电路的研制。
西安电子科技大学芜湖研究院依托于西电宽带隙半导体技术国家重点学科实验室,研发出全国产的基于碳化硅衬底的氮化镓材料,目前在国际第三代半导体技术领域处于领先水平,将助力5G通信制造领域的国产化进程。西电芜湖研究院技术总监陈兴表示,研究院目前已经掌握了氮化镓材料的生产和5G通信芯片的核心设计与制造能力。下一步他们将尽快将这项技术商用,力争早日推向市场。
编辑:曾珂
关键词:中国5G芯片关键材料获突破 将尽快商用推向市场



中国制造助力孟加拉国首条河底隧道项目
澳大利亚猪肉产业协会官员看好进博会机遇
联合国官员说叙利亚约1170万人需要人道主义援助
伊朗外长扎里夫宣布辞职
中国南极中山站迎来建站30周年
联合国特使赴也门斡旋荷台达撤军事宜
以色列前能源部长因从事间谍活动被判11年监禁
故宫博物院建院94年来首开夜场举办“灯会”
法蒂玛·马合木提
王召明
王霞
辜胜阻
聂震宁
钱学明
孟青录
郭晋云
许进
李健
覺醒法師
吕凤鼎
贺铿
金曼
黄维义
关牧村
陈华
陈景秋
秦百兰
张自立
郭松海
李兰
房兴耀
池慧
柳斌杰
曹义孙
毛新宇
詹国枢
朱永新
张晓梅
焦加良
张连起
龙墨
王名
何水法
李延生
巩汉林
李胜素
施杰
王亚非
艾克拜尔·米吉提
姚爱兴
贾宝兰
谢卫
汤素兰
黄信阳
张其成
潘鲁生
冯丹藜
艾克拜尔·米吉提
袁熙坤
毛新宇
学诚法师
宗立成
梁凤仪
施 杰
张晓梅


