为加快建设制造强国，应坚定不移支持底层技术创新攻关，多维度实施有效举措，持续加大底层技术的研发力度、投入力度和长期稳定支持力度，产出更多原创性成果。
为此，建议：
一是支持多路径技术创新。兼顾底层技术原始创新和集成创新，将“原创突破”放在更加重要位置，既支持“从0到1”的原始性创新，也支持“从1到10”、发挥“乘数效应”的集成创新，以切实有效的政策手段和创新联合体等形式，促进产业链协同配合，全链条推进底层技术攻关、成果应用和生态构建。
二是构建跨领域咨询决策机制。发挥专业性智库作用，推广国家对集成电路等重点产业领域的政策支持模式，构建制造业重点领域国家级研究机制或智库体系，构建高水平的决策支撑体系，强化对政府、行业、企业的智力支持。
三是发挥产业化应用促进作用。一方面，注重将底层技术与工程化应用相结合。将底层技术攻关与新质生产力主战场发展相融合，通过实际应用为底层技术提供应用场景和验证空间，通过支持集成应用，以工程化方法解决自主攻关产品性能不足等问题。另一方面，加强对底层技术成果应用的推广力度。
四是加强政策创新和落实力度。建立底层技术创新成果长期奖励机制、市场准入与技术先进结合机制，优化科研管理流程，实施分类差异化的管理策略，减少底层技术创新活动中的行政干预，精简不必要的申报、考核、评价等。在国家级专项中设立底层技术攻关“耐心项目”，对入选的项目，只考核创新成果，不强制要求安排配套资金，强化项目验收灵活性。
五是加大耐心资本投融资支持。充分考虑底层技术和新兴前沿产业的成长周期和体系化创新特点，发挥新型举国体制优势，给予至少10到15年长期、持续、高强度支持。充分发挥国有耐心资本作用，对国有创新投资基金给予一定容错空间。
